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2026.01.22 本文字数：1501，阅读时长大约3分钟 作者 | 第一财经 钱童心 1月22日，国际权威学术期刊《自然》发表了一项来自中国研究团队的原创技术突破。研究人员突破传统硅基芯片范式，在 … 继续阅读 “头发丝里实现大规模集成电路”

IT之家 1 月 21 日消息，媒体 Digitimes 昨日（1 月 20 日）发布博文，报道称苹果、高通和联发科正调整下一代旗舰芯片策略，重心从单纯追求 2nm 制程转向架构优化与缓存扩容。 消息 … 继续阅读 2nm不再是万能药？消息称苹果、高通和联发科集体转向手机芯片架构“内功”

半导体行业正处于增长周期，其增长将受到强大的结构性趋势的推动，包括人工智能驱动的计算和内存需求的加速增长，以及先进封装、功率半导体、硅光子学的转变，以及供应链本地化的迫切需求。 本文由Yole撰写，将 … 继续阅读 半导体市场，最新预测

快科技12月18日消息，虽然在EUV光刻机上已经出局，但日本依然是全球第二大光刻机供应商，这几年日本公司也在憋足劲开发可替代EUV的光刻方案，他们选择了NIL纳米压印技术路线。 此前日本佳能、尼康等公 … 继续阅读 可替代EUV光刻机 工艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

快科技12月15日消息，阿斯麦对中国出口的光刻机到底有多落后，按照其CEO的说法，比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。 近日，阿斯麦首席执行官克里斯托夫富凯接受采访时表示，目前阿斯麦对华出口的设 … 继续阅读 认清事实！阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年

快科技12月7日消息，前不久日本断供光刻胶的消息引发关注，虽然日本方面否认了传闻，但在光刻胶领域，日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。 尤其是在先进的EUV光刻胶领域，目前主要掌握在日本JSR、信 … 继续阅读 拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶

快科技11月26日消息，上海芯上微装科技股份有限公司宣布，公司自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200 ）正式完成出厂调试与验收，启程发往客户现场。 芯上微装表示，这标志着我国在高端半导体光 … 继续阅读 国产高端光刻机关键突破！芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运