快科技12月18日消息,近日,Intel宣布已安装ASML最新的TWINSCAN EXE:5200B光刻系统,这是全球首套、也是目前最先进的第二代High-NA EUV光刻系统,将用于Intel 14 … 继续阅读 全球最先进!Intel安装首套二代High-NA EUV:为14A铺平道路
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1.4nm制程!纳米压印技术突破
近日,日本印刷株式会社(DNP)宣布,成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印(NIL)光刻模板,可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化,可以满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使 … 继续阅读 1.4nm制程!纳米压印技术突破
认清事实!阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年
快科技12月15日消息,阿斯麦对中国出口的光刻机到底有多落后,按照其CEO的说法,比最新的高数值孔径光刻技术整整落后了八代。 近日,阿斯麦首席执行官克里斯托夫富凯接受采访时表示,目前阿斯麦对华出口的设 … 继续阅读 认清事实!阿斯麦对华出口光刻机比最新落后八代 技术差距超10年
拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶
快科技12月7日消息,前不久日本断供光刻胶的消息引发关注,虽然日本方面否认了传闻,但在光刻胶领域,日本公司确实卡了大部分半导体公司的脖子。 尤其是在先进的EUV光刻胶领域,目前主要掌握在日本JSR、信 … 继续阅读 拒绝日本卡脖子 韩国SK海力士将国产化EUV光刻胶
国产高端光刻机关键突破!芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运
快科技11月26日消息,上海芯上微装科技股份有限公司宣布,公司自主研发的首台350nm步进光刻机(AST6200 )正式完成出厂调试与验收,启程发往客户现场。 芯上微装表示,这标志着我国在高端半导体光 … 继续阅读 国产高端光刻机关键突破!芯上微装首台350nm步进光刻机正式发运
OPPO Reno15系列发布:实况拼图功能行业首发,2999元起
凤凰网科技讯 11月17日,OPPO今晚在成都发布新一代Reno15系列智能手机,该系列包含Reno15和Reno15 Pro两款机型,起售价分别为2999元和3699元,将于11月21日全渠道开售。 … 继续阅读 OPPO Reno15系列发布:实况拼图功能行业首发,2999元起
OPPO Reno15 Pro手机参数曝光:天玑8450处理器、2亿主摄等
IT之家 11 月 13 日消息,OPPO Reno15 系列手机将于 11 月 17 日 19:00 发布,博主 @数码闲聊站 昨日曝光了 Pro 版新机的部分规格。 IT之家整理如下: 6.78& … 继续阅读 OPPO Reno15 Pro手机参数曝光:天玑8450处理器、2亿主摄等
藏在石英窗口下的突破:这颗芯片50周年!让CPU终于有了 “可塑的记忆”
1975 年,2708 成为首款切实可行的 EPROM—— 工程师们只要能为其供电,就能将它插入 8 位系统中使用。 20 世纪 70 年代初,掩模 ROM 成了行业瓶颈。每次固件更新,硬件团队都得等 … 继续阅读 藏在石英窗口下的突破:这颗芯片50周年!让CPU终于有了 “可塑的记忆”
中国芯片光刻新突破!对产业界意味着什么?三问光刻技术
◎ 科技日报记者 张盖伦 光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然·通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻 … 继续阅读 中国芯片光刻新突破!对产业界意味着什么?三问光刻技术
中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
快科技10月26日消息,我国光刻胶领域取得新突破! 据科技日报报道,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三 … 继续阅读 中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

