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◎ 科技日报记者 张盖伦 光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然·通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻 … Continue reading 中国芯片光刻新突破！对产业界意味着什么？三问光刻技术

快科技10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！ 据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三 … Continue reading 中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”