快科技10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！ 据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三 … Continue reading 中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
标签： 湿法
盛美发布边缘湿法刻蚀设备：支持3D NAND、DRAM和先进逻辑制造工艺
8月19日消息，盛美半导体设备近日公布的边缘湿法刻蚀设备，进一步拓宽了盛美湿法设备的覆盖面。 该新设备使用湿法刻蚀方法来去除晶圆边缘的各种电介质、金属和有机材料薄膜，以及颗粒污染物。这种方法最大限度地 … Continue reading 盛美发布边缘湿法刻蚀设备：支持3D NAND、DRAM和先进逻辑制造工艺
