近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能手机、数据中心以及NAND闪存等设备中使 … Continue reading 1.4nm制程！纳米压印技术突破
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ruby — 基础学习（五）empty、nil、blank三者之间的区别
这三个方法在ROR中经常用到，都是用来判断是否为空的。 区别是： ruby的方法：.nil?、.empty? rails的方法 ：.blank? 用法的区别： .nil? & … Continue reading ruby — 基础学习（五）empty、nil、blank三者之间的区别
挑战EUV光刻：NIL靠谱吗？一文秒懂
芯片制造离不开光刻机，且制程越先进，其重要性越凸出，占芯片制造总成本比例也越高，总体来看，光刻机的成本占总设备成本的30%。 当制程发展到7nm后，必须要用到EUV(极紫外线)光刻机，这种光刻机只有A … Continue reading 挑战EUV光刻：NIL靠谱吗？一文秒懂
