iPad Pro 未来或将配备均热板 Grok 虚拟伴侣「Mika」上线 DeepSeek 领跑 AI 实盘交易对决,收益达 9.68% 价格继续飙升,存储原厂暂停报价 REDMI 产品经理:Turb … 继续阅读 早报|iPad Pro未来或将配备均热板/Windows 10停止支持引换机潮,Mac出货量大增/DeepSeek领跑AI实盘交易对决
标签: 光刻胶
中国芯片光刻新突破!对产业界意味着什么?三问光刻技术
◎ 科技日报记者 张盖伦 光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然·通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻 … 继续阅读 中国芯片光刻新突破!对产业界意味着什么?三问光刻技术
中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
快科技10月26日消息,我国光刻胶领域取得新突破! 据科技日报报道,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三 … 继续阅读 中国光刻胶领域取得新突破!首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”
最新!我国芯片领域取得新突破
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。 据科技日报,近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的 … 继续阅读 最新!我国芯片领域取得新突破
光刻胶领域 我国取得新突破
财联社10月25日电,光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日,北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术,首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相 … 继续阅读 光刻胶领域 我国取得新突破
北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题,光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘
IT之家 10 月 24 日消息,在芯片制造这项关乎现代科技命脉的精密工程中,光刻技术扮演着如同画笔般的核心角色,负责将复杂的电路图案一丝不苟地“绘制”在硅晶圆上。 然而,在这个核心流程中,一个关键的 … 继续阅读 北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题,光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘
联泓新科:公司电子特气产品已稳定供应台积电、上海新昇
每经AI快讯,10月15日,联泓新科在互动平台表示,公司电子特气产品已稳定供应台积电、上海新昇等行业领先企业,光刻胶树脂单体、固态电池部分产品已形成批量销售。
艾森股份:半导体电镀液及光刻胶产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节
财联社9月29日电,艾森股份在互动平台表示,公司作为半导体电镀液及光刻胶供应商,产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节。存储芯片产能扩张将同步拉动材料采购量。存储芯片国产化加速背景下,公司 … 继续阅读 艾森股份:半导体电镀液及光刻胶产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节
无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线揭牌
9月4日,2025集成电路(无锡)创新发展大会开幕。本届大会上,长三角国家技术创新中心车规级芯片中试服务平台、无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线、江苏(集萃)光刻胶树脂合成中试线揭牌,中国开放指令生 … 继续阅读 无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线揭牌
芯片制造的“投影微雕术”:光刻段工艺
文章来源:半导体与物理 原文作者:jjfly686 本文主要讲述什么是光刻段工艺。 当您惊叹于手机的超高性能时,其核心动力源自一枚指甲盖大小的芯片,内部藏着百亿个晶体管。如何在硅片上精确“绘制”这些纳 … 继续阅读 芯片制造的“投影微雕术”:光刻段工艺

