标签： 光刻胶

光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。 据科技日报，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的 … Continue reading 最新！我国芯片领域取得新突破

财联社10月25日电，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相 … Continue reading 光刻胶领域 我国取得新突破

IT之家 10 月 24 日消息，在芯片制造这项关乎现代科技命脉的精密工程中，光刻技术扮演着如同画笔般的核心角色，负责将复杂的电路图案一丝不苟地“绘制”在硅晶圆上。 然而，在这个核心流程中，一个关键的 … Continue reading 北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题，光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘

每经AI快讯，10月15日，联泓新科在互动平台表示，公司电子特气产品已稳定供应台积电、上海新昇等行业领先企业，光刻胶树脂单体、固态电池部分产品已形成批量销售。

财联社9月29日电，艾森股份在互动平台表示，公司作为半导体电镀液及光刻胶供应商，产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节。存储芯片产能扩张将同步拉动材料采购量。存储芯片国产化加速背景下，公司 … Continue reading 艾森股份：半导体电镀液及光刻胶产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节

9月4日，2025集成电路（无锡）创新发展大会开幕。本届大会上，长三角国家技术创新中心车规级芯片中试服务平台、无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线、江苏（集萃）光刻胶树脂合成中试线揭牌，中国开放指令生 … Continue reading 无锡先进制程半导体纳米级光刻胶中试线揭牌

文章来源：半导体与物理 原文作者：jjfly686 本文主要讲述什么是光刻段工艺。 当您惊叹于手机的超高性能时，其核心动力源自一枚指甲盖大小的芯片，内部藏着百亿个晶体管。如何在硅片上精确“绘制”这些纳 … Continue reading 芯片制造的“投影微雕术”：光刻段工艺

8月9日消息，据《华尔街日报》报道，英特尔董事会主席弗兰克·耶利（Frank Yeary）今年早些时候试图分拆英特尔代工厂，甚至将其出售给台积电，但遭到了3月份任命的英特尔首席执行官陈立 … Continue reading 英特尔内斗曝光：董事长试图将晶圆厂卖给台积电，遭陈立武强烈反对

在日本政府考虑如何应对美国对华半导体出口管制新规之际，中国在用于制造芯片的光刻胶等特殊化学品上对日本的依赖正引发连锁反应。 鉴于日本可能对华限制出口以及光刻胶产能紧张等因素，中国投资者当前已表现出争相 … Continue reading 日本拟对华限制光刻胶出口？国内投资者莫过于恐慌