光刻胶 – 第 2 页 – 冯金伟博客园

2nm工艺志在必得日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

快科技11月3日消息，EUV工艺是5nm节点之后无法绕过的先进工艺，EUV光刻机只有荷兰ASML能产，但日本在EUV光刻胶领域很有优势，针对2nm及以下节点，日本三大化工巨头都在积极扩产。日本半导体 … 继续阅读 2nm工艺志在必得日本三大EUV光刻胶巨头巨资扩产

A股三大指数高开后震荡走强，涨幅均超1%。盘面上，科技板块强势上涨，存储板块午后再度上攻。截至13点48，人工智能AIETF（515070）涨幅扩大至2.31%，其持仓股新易盛、大华股份涨超8%，深信 … 继续阅读光刻机技术实现突破性进展，人工智能AIETF（515070）盘中涨超2%

iPad Pro 未来或将配备均热板 Grok 虚拟伴侣「Mika」上线 DeepSeek 领跑 AI 实盘交易对决，收益达 9.68% 价格继续飙升，存储原厂暂停报价 REDMI 产品经理：Turb … 继续阅读早报｜iPad Pro未来或将配备均热板/Windows 10停止支持引换机潮，Mac出货量大增/DeepSeek领跑AI实盘交易对决

◎ 科技日报记者张盖伦光刻技术是推动芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及其合作者在《自然·通讯》上披露了他们的新发现。该团队通过冷冻 … 继续阅读中国芯片光刻新突破！对产业界意味着什么？三问光刻技术

快科技10月26日消息，我国光刻胶领域取得新突破！据科技日报报道，近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三 … 继续阅读中国光刻胶领域取得新突破！首次合成分辨率优于5nm的微观三维“全景照片”

财联社10月25日电，光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相 … 继续阅读光刻胶领域我国取得新突破

IT之家 10 月 24 日消息，在芯片制造这项关乎现代科技命脉的精密工程中，光刻技术扮演着如同画笔般的核心角色，负责将复杂的电路图案一丝不苟地“绘制”在硅晶圆上。然而，在这个核心流程中，一个关键的 … 继续阅读北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题，光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘

每经AI快讯，10月15日，联泓新科在互动平台表示，公司电子特气产品已稳定供应台积电、上海新昇等行业领先企业，光刻胶树脂单体、固态电池部分产品已形成批量销售。

财联社9月29日电，艾森股份在互动平台表示，公司作为半导体电镀液及光刻胶供应商，产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节。存储芯片产能扩张将同步拉动材料采购量。存储芯片国产化加速背景下，公司 … 继续阅读艾森股份：半导体电镀液及光刻胶产品可直接用于存储芯片制造中的电镀和图形化工艺环节