标签: 紫外光
SK海力士将斥资近80亿美元采购ASML极紫外光刻设备
3月24日,据报道,SK海力士表示,为准备新产品的大规模量产,公司将采购价值11.95万亿韩元(约合79.7亿美元)的ASML极紫外光刻设备。SK海力士在监管文件中称,将在2027年12月31日前完成 … 继续阅读 SK海力士将斥资近80亿美元采购ASML极紫外光刻设备
阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破,2030年芯片产能或提升50%
IT之家 2 月 23 日消息,据路透社今日报道,阿斯麦(ASML)的研究人员表示,他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法,到 2030 年可将芯片产量提高多达 50%。 IT之家注意到,阿斯麦 … 继续阅读 阿斯麦ASML公布EUV光源技术突破,2030年芯片产能或提升50%
阿斯麦公布EUV光源技术突破,到2030年芯片产能有望提升50%
据报道,当地时间2月23日,阿斯麦研究人员表示,他们已找到提升关键芯片制造设备光源功率的方法。通过将EUV(极紫外光刻)光源功率提升至1000瓦,有望在2030年前使芯片产量提高50%。
阿斯麦:预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%
财联社2月23日电,阿斯麦表示,通过提升功率,可将光刻机极紫外光源的功率提升至1000瓦特,预计到2030年极紫外光刻机的每小时晶圆产量可增加50%。
阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造,推动分子传感技术发展
IT之家 12 月 22 日消息,比利时微电子研究中心(IMEC)已成功利用阿斯麦(ASML)最先进的极紫外光刻(EUV)设备,实现了纳米孔的全晶圆级制造。阿斯麦公司公关负责人将此称作其公司设备“一项 … 继续阅读 阿斯麦EUV光刻机实现纳米孔全晶圆级制造,推动分子传感技术发展
阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产
《科创板日报》15日讯,阿斯麦(ASML)首席执行官克里斯托夫·富凯表示,公司为High-NA EUV(高数值孔径极紫外光刻机)所设计的光刻改进方案已得到验证,成像效果极佳,分辨率非常出色。目前公司正 … 继续阅读 阿斯麦CEO:High-NA EUV光刻改进方案已得到验证 预计2027至2028年大规模量产
全球首家:赛伍技术实现钙钛矿叠层组件光转膜批量交付
IT之家 11 月 19 日消息,苏州赛伍应用技术股份有限公司(赛伍技术)今日宣布,公司成功实现“应用于钙钛矿叠层组件的光转膜”的首次批量交付,产品已顺利送达美国某知名光伏企业。 赛伍技术表示,此举标 … 继续阅读 全球首家:赛伍技术实现钙钛矿叠层组件光转膜批量交付
退休3个月:台积电75岁老将罗唯仁被曝加盟英特尔执掌研发大计
IT之家 10 月 28 日消息,前台积电企业策略发展资深副总经理罗唯仁已于 7 月 27 日正式宣布退休,为其长达 21 年的台积电职业生涯画下一个句号。 据中国台湾《自由时报》报道,75 岁的罗唯 … 继续阅读 退休3个月:台积电75岁老将罗唯仁被曝加盟英特尔执掌研发大计
ARM CEO锐评英特尔:因错失良机而“受罚”,追赶台积电非常困难
IT之家 10 月 5 日消息,ARM 首席执行官雷内・哈斯(Rene Haas)于当地时间周三在做客 All In Podcast 播客节目时就英特尔与台积电的竞争态势发表了评论。 他指出,英特尔因 … 继续阅读 ARM CEO锐评英特尔:因错失良机而“受罚”,追赶台积电非常困难

