标签： 刻蚀

盛美上海：近期推出的首款KrF工艺前道涂胶显影设备已交付中国头部逻辑晶圆厂客户

盛美上海9月23日在互动平台表示， 公司于7月28日宣布对其Ultra C wb湿法清洗设备进行了重大升级。此次全新升级旨在满足先进节点制造工艺的苛刻技术要求。升级后的Ultra C wb采用了专利申 … Continue reading 盛美上海：近期推出的首款KrF工艺前道涂胶显影设备已交付中国头部逻辑晶圆厂客户

国产5nm半导体设备已获得台积电订单 5nm以下技术研发中

除了大家都知道的光刻机，半导体设备生产中还需要各种设备，国内的中微半导体设备公司已经能够生产高端刻蚀设备，其5nm刻蚀机已经批量生产，用于台积电的5nm生产线中。 中微半导体上周末发布了2019年财报 … Continue reading 国产5nm半导体设备已获得台积电订单 5nm以下技术研发中