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在10nm节点Intel的进度比预期晚了多年，很大一个原因跟EUV光刻机有关，Intel之前一直认为EUV技术不成熟，所以他们在10nm节点使用了四重曝光工艺，量产难度大，导致10nm工艺延期。 现在 … 继续阅读 Intel CEO基辛格：全面拥抱EUV光刻、会有重大工艺升级

在全球晶圆代工市场上，台积电是第一大，产能和技术都是领先的，份额超过50%，三星拿下了20%多的份额，先进工艺也能追着台积电跑，5nm工艺也代工了麒麟888。然而最近的消息不太妙，三星的EUV良率遇到 … 继续阅读 三星代工业务遭遇不顺 消息称部分5nm EUV良率低于50%

7月2日消息，国内半导体材料厂商南大光电在互动平台上表示，公司旗下的ArF光刻胶产品拿到小批量订单，不过他们没有透露具体的客户名单。 今年5月份，南大光电发表公告，控股子公司宁波南大光电自主研发的Ar … 继续阅读 南大光电ArF光刻胶已拿到小批量订单 曾称可用于14/7nm工艺

在三星、SK海力士开始启用EUV光刻机闪存内存芯片之后，美光现在也要加入了，跟ASML谈判采购EUV光刻机，2024年生产新的EUV内存芯片。 美光科技总裁兼首席执行官桑杰·梅赫罗特拉 … 继续阅读 加入EUV光刻机抢购队伍 美光2024年生产全新内存芯片

作为全球最大的晶圆代工厂，台积电在先进工艺及产能两方面都是NO.1优势，所以不愁订单，仅仅是EUV光刻机就拿下全球50%的份额，随着苹果A15、M1X、M2以及AMD Zen4芯片陆续量产，EUV产能 … 继续阅读 包揽全球一半EUV光刻机 台积电A15、Zen4产能大增

中国科学院官网刊文称，上海光机所在计算光刻技术研究方面取得重要进展。 光刻是极大规模集成电路制造的关键技术之一，光刻分辨率决定集成电路的特征尺寸。随着集成电路图形的特征尺寸不断减小，光刻系统的衍射受限 … 继续阅读 中科院：计算光刻技术取得重大进展

日前传出ASML新一代光刻机EXE:5000跳票到2025年之后的消息，但似乎荷兰人已经找到帮手帮自己提速。 日本最大半导体成膜、蚀刻设备公司东京电子（东京威力科创，Tokyo Electron）宣布 … 继续阅读 ASML拒绝新一代EUV光刻机跳票：找到日本巨头技术驰援

众所周知，目前国内在芯片制造领域仍处于落后地位。虽然中芯国际等少数晶圆代工厂已经能够量产28/14nm工艺，但是其制造产线上的半导体设备仍严重依赖于美国。 去年5月，华为在被美国升级制裁之后，台积电、 … 继续阅读 上海微电子年底前推出28nm光刻机？很残酷

6月7日讯，在华为重磅发布HarmonyOS 2（鸿蒙操作系统）的当天，天眼查显示，华为旗下的哈勃投资公司开始投资光刻机领域了，入股了由中科院微电子所控股的北京科益虹源公司。 公开信息显示，北京科益虹 … 继续阅读 大动作！华为最新投向光刻机 一图看懂国产产业链名单