散热成拦路虎:SemiWiki专家解析为何英特尔造不了iPhone芯片

IT之家 2 月 3 日消息,科技媒体 Mac Observer 昨日(2 月 2 日)发布博文,报道称针对近期关于“苹果将在 iPhone 中采用英特尔芯片”的传闻,多位半导体行业专家表示该可能性几乎为零。

此次传闻源于 DigiTimes 的一份报道。该报道指出,苹果正评估将英特尔 18A P 工艺用于计划于 2027 年发布的低端 M 系列芯片,甚至可能在 2028 年用于非 Pro 版 iPhone 的芯片生产。

此外,广发证券(GF Securities)分析师蒲得宇 Jeff Pu 补充称,苹果计划于 2028 年推出的定制 ASIC 芯片也将采用英特尔的 EMIB 封装技术。

还有消息称英特尔已与苹果签署保密协议(NDA),并交付了 18A P 设计套件以供测试,该节点也是英特尔首个支持 Foveros Direct 3D 混合键合技术的工艺,允许芯片进行垂直堆叠。

不过 SemiWiki 论坛专家指出核心技术障碍:散热。英特尔在 18A 和 14A 节点上全面采用了被称为 PowerVia 的背面供电技术(BSPD)。

相比之下,台积电则采取了更为灵活的策略,提供含 BSPD 和不含 BSPD 的多种节点供设计者选择。专家分析,虽然 BSPD 能优化供电效率并提升性能,但其结构特性会导致芯片运行温度升高。

行业专家 IanD 指出在保持相同芯片核心温度(Hotspots)的前提下,采用 BSPD 技术的芯片需要散热器温度降低约 20°C 才能维持热平衡。IT之家附上相关截图如下:

其主要原因是 BSPD 结构导致垂直导热性能变差,且由于缺乏厚硅基板,横向导热能力也大幅削弱。对于依赖空气冷却(Air Cooling)且机身空间极度受限的 iPhone 而言,这种热积聚是致命的。

综上所述,英特尔的先进工艺虽然在性能指标上具有竞争力,但其热力学特性并不适合智能手机。业内普遍认为,英特尔或许有机会争取到散热条件相对宽松的低端 M 系列(Mac)芯片订单,但在解决严重的积热问题之前,iPhone 处理器的大门对其依然紧闭。

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风君子

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